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J-GLOBAL ID：200903028202791279

ノズル洗浄装置

Inventor： 河村 利美 ,  難波 祐三郎 ,  高橋 修司 ,  石渡 英治
Applicant, Patent owner： 三光純薬株式会社 ,  エーザイ株式会社 ,  神田通信工業株式会社
Agent (1)： 石原 詔二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997193465
Publication number (International publication number)：1999038016
Application date： Jul. 18, 1997
Publication date： Feb. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ノズル洗浄孔の開口面積を最小にすることができ、装置容積も小さくでき、かつ使用する洗浄液の量を極小にすることを可能とし、また洗浄用液に起因する結晶体の反応管への付着を皆無としたノズル洗浄装置を提供する。【解決手段】 反応容器中の液を吸引するノズル及び反応容器に液を注入するノズルの洗浄を行う装置であり、反応容器の設置位置の上方に位置するように設けられかつノズルが該反応容器中に進入可能なようにノズルを上下動自在に保持するノズル保持手段と、該ノズル保持手段と反応容器の設置位置の間に設けられたノズル洗浄ケースと、該ノズル保持手段に保持されたノズルが上下動自在に挿通できるように該ノズル洗浄ケース内に設けられたノズル通路と、該ノズル通路内に位置するノズルを洗浄する洗浄機構とを有する。

Claim (excerpt)：

反応容器中の液を吸引するノズル及び反応容器に液を注入するノズルの洗浄を行う装置であり、反応容器の設置位置の上方に位置するように設けられかつノズルが該反応容器中に進入可能なようにノズルを上下動自在に保持するノズル保持手段と、該ノズル保持手段と反応容器の設置位置の間に設けられたノズル洗浄ケースと、該ノズル保持手段に保持されたノズルが上下動自在に挿通できるように該ノズル洗浄ケース内に設けられたノズル通路と、該ノズル通路内に位置するノズルを洗浄する洗浄機構とを有することを特徴とするノズル洗浄装置。

IPC (2)：

G01N 35/10 ,  G01N 33/543 531

FI (2)：

G01N 35/06 F ,  G01N 33/543 531