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J-GLOBAL ID:200903028228528096

高分子光導波路

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 秀和 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000078777
Publication number (International publication number):2001264562
Application date: Mar. 21, 2000
Publication date: Sep. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 温度変化や湿度変化を伴う一般的な環境下で長期間使用してもクラックが発生せず、高い信頼性を有する高分子光導波路を提供する。【解決手段】 基板11上に高分子材料からなる応力緩和層12および下部クラッド層13を形成し、その上に形成されたコア部14を覆う上部クラッド層15から構成されている。
Claim (excerpt):
基板上に下部クラッド層、コア部および上部クラッド層を設けて構成される高分子光導波路であって、前記基板と下部クラッド層との間に応力緩和層を設けたことを特徴とする高分子光導波路。
IPC (2):
G02B 6/122 ,  G02B 6/12
FI (2):
G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 N
F-Term (2):
2H047KA04 ,  2H047QA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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