Pat
J-GLOBAL ID:200903028233795337
フォトレジスト組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
千田 稔 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001583242
Publication number (International publication number):2003532933
Application date: May. 08, 2001
Publication date: Nov. 05, 2003
Summary:
【要約】本発明は複素脂環式基、好ましくは酸素-または硫黄-含有環を含むポリマーに関する。複素脂環式基は好ましくはポリマー骨格に縮合している。本発明はまた、そのようなポリマーを含むフォトレジストに関する、特には200nm以下のような短波長でのイメージング用のフォトレジストに関する。
Claim (excerpt):
i)ポリマー骨格に縮合した、1以上の酸素または硫黄の環構成元素を含む複素脂環式基、ii)ポリマー骨格に縮合した炭素脂環式基、およびiii)フォト酸レイビル部位を含むポリマー、および光活性成分を含む、フォトレジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, H01L 21/30 502 R
F-Term (34):
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 4J100AK31Q
, 4J100AK32Q
, 4J100AL08P
, 4J100AM02Q
, 4J100AQ01Q
, 4J100AR11R
, 4J100AR31S
, 4J100AR32S
, 4J100BA05S
, 4J100BA11S
, 4J100BB18P
, 4J100BC02P
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC07P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100CA03
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
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