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J-GLOBAL ID：200903028261221060

成形方法、冷却装置、光学素子及び成形装置

Inventor： 宮越 博史 ,  古田 和三 ,  森川 雅弘 ,  増田 修 ,  今榮 真紀子
Applicant, Patent owner： コニカミノルタホールディングス株式会社
Agent (2)： 田村 敬二郎 ,  小林 研一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005043376
Publication number (International publication number)：2006051796
Application date： Feb. 21, 2005
Publication date： Feb. 23, 2006
Summary：

【課題】 より簡便に且つ低コストで、高アスペクト比の微細形状を有する成形物を成形できる成形方法、成形装置及びその冷却装置、並びに光学素子を提供する。 【解決手段】 型部材Mを被成形材Pに対向させ、微細形状が被成形材Pに接触した後に、第1の速度で押圧することにより、被成形材Pの表面のみを溶融させて、微細形状を転写できる状態とし、その後、型部材Mを被成形材Pに対して第1の速度より速い第2の速度で押圧することで、微細形状の転写を実行することで、被成形材Pの加熱溶融を抑制して、精度の良い転写を行えるようにした。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

微細形状を有する型の温度を、加熱することで変形する素材のガラス転移点温度より高く設定するステップと、 前記型を前記素材に対向させ、前記微細形状が前記素材に接触した後に、第1の速度で押圧するステップと、 前記型を前記素材に対して前記第1の速度より速い第2の速度で押圧するステップと、 前記型を前記素材から離型させるステップと、を有することを特徴とする成形方法。

IPC (4)：

B29C 59/02 ,  C03B 11/00 ,  C03B 11/12 ,  G02B 5/30

FI (4)：

B29C59/02 B ,  C03B11/00 E ,  C03B11/12 ,  G02B5/30

F-Term (28)：

2H049BA06 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  4F209AC03 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AG21 ,  4F209AG26 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AH79 ,  4F209AJ06 ,  4F209AR06 ,  4F209AR08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PC08 ,  4F209PH06 ,  4F209PN03 ,  4F209PN04 ,  4F209PN06 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ12 ,  4F209PQ14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 波長板、波長板ユニット、光ピックアップ装置及び光ディスク装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-049869   Applicant：株式会社リコー

Cited by examiner (2)

• 光学製品のプレス成形装置およびプレス成形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-189746   Applicant：株式会社名機製作所
• 透明部材とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-330768   Applicant：株式会社日立製作所, ワシ興産株式会社