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J-GLOBAL ID:200903028284729177
噴霧装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 宍戸 嘉一
, 村社 厚夫
, 弟子丸 健
, 井野 砂里
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005325003
Publication number (International publication number):2007130555
Application date: Nov. 09, 2005
Publication date: May. 31, 2007
Summary:
【課題】水あるいは抗菌剤、抗カビ剤、消臭剤等の溶液が、効率的に0.1ミクロン以下に超ミスト化され、着衣や部屋内をべたつかせるおそれがない噴霧装置を提供すること。【解決手段】液体を超音波発振器によって霧化して外部へ噴射する噴霧装置であって、第1霧化室において、超音波発振器によって上方へ向けて発生した液体粒子をスカート部付きの跳ね返し部で下方へ跳ね返し、上部後方部から入れられた下向きのエア流れによって液面方向へ下降させた後、上方の第2霧化室へ移動させ、第2霧化室において、後側下部から上向きに入れられた液体粒子を、水平旋回のエア流れと、上部後方部から入れられた下向きのエア流れによって攪拌し、概ね0.1ミクロン以下の液体粒子を上部後方部から外部へ噴射することを特徴とする噴霧装置。【選択図】図2
Claim (excerpt):
液体を超音波発振器によって霧化して外部へ噴射する噴霧装置であって、
第1霧化室において、超音波発振器によって上方へ向けて発生した液体粒子をスカート部付きの跳ね返し部で下方へ跳ね返し、上部後方部から入れられた下向きのエア流れによって液面方向へ下降させた後、上方の第2霧化室へ移動させ、
第2霧化室において、後側下部から上向きに入れられた液体粒子を、水平旋回のエア流れと、上部後方部から入れられた下向きのエア流れによって攪拌し、概ね0.1ミクロン以下の液体粒子を上部後方部から外部へ噴射することを特徴とする噴霧装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (15):
4C080AA03
, 4C080BB02
, 4C080BB05
, 4C080BB08
, 4C080CC01
, 4C080HH03
, 4C080JJ09
, 4C080KK06
, 4C080QQ17
, 4D074AA02
, 4D074BB01
, 4D074BB03
, 4D074BB06
, 4D074DD03
, 4D074DD17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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特許3067089号公報
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次亜塩素酸水溶液による殺菌方法および殺菌装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-370754
Applicant:ソニー株式会社, ブイティーエイ株式会社
-
照明付き噴霧器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-418689
Applicant:株式会社ナルサ東京
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