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J-GLOBAL ID：200903028342893160

改善されたCD制御のためのARC

Inventor： ディルク テッベン ,  ジル ヨン リー ,  チージャン ルー
Applicant, Patent owner： インフィニオン テクノロジーズ ノース アメリカ コーポレイション
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000086623
Publication number (International publication number)：2000299282
Application date： Mar. 27, 2000
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 従来技術における欠点を解消すべく、より改善されたCD(クリティカル・ディメンション;限界寸法)制御をもたらすARC(反射防止コーティング)層を提供すること。【解決手段】 基板上に反射防止コーティング層をデポジットし、前記ARC層上にレジスト層をデポジットし、前記ARC層は第1のセクションと第2のセクションからなり、前記第1のセクションは、吸収モードで動作し、前記第2のセクションは、前記第1のセクションの屈折率とレジストの屈折率の間の差分を低減するような、屈折率を有するようにする。

Claim (excerpt)：

リソグラフィにおけるレジスト内の反射率低減のための方法において、基板上に反射防止コーティング(ARC)層をデポジットし、前記ARC層上にレジスト層をデポジットし、前記ARC層は第1のセクションと第2のセクションからなり、前記第1のセクションは、吸収モードで動作し、前記第2のセクションは、前記第1のセクションの屈折率とレジストの屈折率の間の差分を低減するような、屈折率を有していることを特徴とする方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/26 501

FI (4)：

H01L 21/30 574 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/26 501