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J-GLOBAL ID：200903028356128653

高分子組成物及びその製造方法

Inventor： 玉木 昌子 ,  延藤 吉保 ,  野村 幸生 ,  曽我 眞守 ,  尾崎 伸司 ,  小川 一文
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993334206
Publication number (International publication number)：1995186319
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は繰り返し洗浄に対する耐久性が優れ、高特性の撥水、撥油、防汚性を有する高分子組成物を提供することを目的としている。【構成】 高分子を含む基体11の表面にSiO<SB>x</SB>(0<x<4)膜12が形成され、シロキサン結合を介して化学吸着膜が設けられている。これにより化学吸着膜は高分子組成物の表面から剥がれることがなく、化学吸着膜に付与された撥水撥油防汚性などの機能を保持し続けることができる。

Claim (excerpt)：

高分子を含む基体表面に、SiO<SB>x</SB>(0<x<4)から構成される膜を設け、さらにシロキサン結合を有する化学吸着膜を積層した高分子組成物。

IPC (5)：

B32B 9/00 ,  C08J 7/00 307 ,  C08J 7/04 CEW ,  C08J 7/04 CFH ,  C08L 83:04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 固体像形成システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平2-406105   Applicant：帝人製機株式会社
• 特開平4-221630
  
• 特開平4-285566