ベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：中本宏 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997141121
Publication number (International publication number)：1998316726
Application date： May. 16, 1997
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】耐汚染性を有する新規な紫外線吸収性樹脂を提供する。【解決手段】一般式(1)のポリシロキサン含有ビニル系単量体(A)と下記一般式(2)の紫外線吸収基を有するビニル系単量体(B)とを共重合して得られる、数平均分子量が2,000〜2,000,000であるベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体。【化1】 CH2 =R1 C-X-(Si(R2 )2 O)n -Si(R3 )3 (1)【化2】CH2 =CR1 -Y (2)〔R1 は水素原子又はメチル基、R2 ,R3 は炭素数1〜3のアルキル基又はフェニル基、nは6〜100の整数、Xはフェニレン基又は、カルボニルオキシアルキレン基もしくはカルボニルオキシアルキレンオキシアルキレン基、Yはベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基のいずれかの特性基を有する置換基。〕

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるポリシロキサン含有ビニル系単量体(A)と下記一般式(2)で示される紫外線吸収基を有するビニル系単量体(B)とを、(A)と(B)の比率が重量比で10対90から90対10の範囲で共重合して得られる、数平均分子量が2,000〜2,000,000であるベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体。【化1】 CH2 =R1 C-X-(Si(R2 )2 O)n -Si(R3 )3 (1)〔式中、R1 は水素原子又はメチル基を示す。R2 とR3 は炭素数1〜3のアルキル基又はフェニル基で、同じ基でも異なっていても良い。nは6〜100の整数を示す。Xはフェニレン基又は、-COOCm H2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレン基又は、-COOCm H2m-O-Cm H2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレンオキシアルキレン基を示す。〕【化2】CH2 =CR1 -Y (2)(式中、R1 は水素原子又はメチル基であり、Yはベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基のいずれかより選ばれる基を有する置換基。)

IPC (3)：

C08F290/06 , C08F226/06 , C09D155/00

FI (3)：

C08F290/06 , C08F226/06 , C09D155/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ケイ素含有重合体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-086449 Applicant：株式会社リコー
硬化性エマルジョンおよび該エマルジョンからなる被覆剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-291671 Applicant：東亞合成株式会社
特開平4-120181

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