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J-GLOBAL ID：200903028364135235

フォトレジスト組成物

Inventor： カール-ローレンツ・メルテスドルフ ,  ハンス-トーマス・シヤハト ,  ノルベルト・ムエンツエル ,  パスクアーレ・アルフレド・フアルチーニヨ
Applicant, Patent owner： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995330236
Publication number (International publication number)：1996253533
Application date： Dec. 19, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【課題】 高い処理安定性と流動抵抗とを有するDUVフォトレジストのためのバインダーとして好適であるポリマーの提供。【解決手段】 このポリマーは式I〜IV【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は互いに独立して水素、メチルまたはハロゲンであり、R5およびR6は互いに独立してC1〜C6アルキル基であり、R7、R8、R9およびR10は互いに独立して水素、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはハロゲンであり、そしてw、x、yおよびzは1またはそれ以上の数であるが、ただし保護基を有する構成単位の総和を存在するすべての構成単位の総和で除して得ることのできる比率【数1】が0.10≦Q≦0.50である)で表される反復する構成単位を含み5,000〜1,000,000の平均分子量(重量平均)(ゲル透過クロマトグラフィーにより測定)を有する。

Claim (excerpt)：

式I〜IV【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は互いに独立して水素、メチルまたはハロゲンであり、R5およびR6は互いに独立してC1〜C6アルキル基であり、R7、R8、R9およびR10は互いに独立して水素、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはハロゲンであり、そしてw、x、yおよびzは1またはそれ以上の数であるが、ただし保護基を有する構成単位の総和を存在するすべての構成単位の総和で除して得ることのできる比率【数1】が0.10≦Q≦0.50である)の反復する構成単位を含む5,000〜1,000,000の平均分子量(重量平均)(ゲル透過クロマトグラフィーにより測定)を有するポリマー。

IPC (11)：

C08F212/14 MJY ,  C08F216/10 MKV ,  C08F216/14 MKZ ,  C08F216/16 MKY ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/28

FI (11)：

C08F212/14 MJY ,  C08F216/10 MKV ,  C08F216/14 MKZ ,  C08F216/16 MKY ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H05K 3/00 F ,  H05K 3/28 D ,  H01L 21/30 502 R