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J-GLOBAL ID:200903028389002280

金属膜作製方法及び金属膜作製装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001349820
Publication number (International publication number):2003147524
Application date: Nov. 15, 2001
Publication date: May. 21, 2003
Summary:
【要約】【課題】 成膜速度が速く、安価な原料を用いることができ、膜中の不純物を可及的に低減し得る金属膜作製方法を提供する。【解決手段】 チャンバ1に配設する銅板部材7で形成した被エッチング部材とチャンバ1内に収容する基板3の温度とを所定の温度及び温度差に制御することにより、チャンバ1内に形成するCl2 ガスプラズマ14で銅板部材7ををエッチングして基板3にCu薄膜16の成膜を行う場合において、先ずチャンバ1内の水素ガスプラズマで銅板部材7の予備加熱を含む前処理を行い、その後チャンバ1内の原料ガスプラズマで銅板部材7をエッチングしてそのCu成分による成膜を行うようにした。
Claim (excerpt):
内部に基板を収容するチャンバに高蒸気圧ハロゲン化物を作る金属で形成した被エッチング部材を配設する一方、この被エッチング部材と前記基板の温度とを所定の温度及び温度差に制御することにより、前記チャンバ内のハロゲンを含有する原料ガスプラズマで前記被エッチング部材をエッチングして金属成分と原料ガスとの前駆体を形成し、この前駆体の金属成分を基板に析出させて所定の成膜を行う場合において、先ずチャンバ内の水素ガスプラズマで前記被エッチング部材の予備加熱を含む前処理を行い、その後チャンバ内の原料ガスプラズマで前記被エッチング部材をエッチングしてその金属成分による成膜を行うようにしたことを特徴とする金属膜作製方法。
IPC (2):
C23C 16/02 ,  H01L 21/285
FI (2):
C23C 16/02 ,  H01L 21/285 C
F-Term (16):
4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030DA03 ,  4K030DA04 ,  4K030DA08 ,  4K030FA03 ,  4K030JA10 ,  4K030JA12 ,  4K030KA24 ,  4K030KA41 ,  4M104BB04 ,  4M104BB14 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104DD43 ,  4M104DD44

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