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J-GLOBAL ID:200903028415576606

シリコーン樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 成瀬 勝夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999089441
Publication number (International publication number):2000281790
Application date: Mar. 30, 1999
Publication date: Oct. 10, 2000
Summary:
【要約】【課題】 多層レジスト法用のレジスト材やPDP障壁形成用レジスト材として優れた性能を示すシリコーン感光性樹脂を提供すること、特に、耐プラズマ性(耐O2-RIE)性に優れると共に、これを用いてパターンを形成したとき、高いアスペクト比を得ることができるレジスト材を提供することを目的とする。【解決手段】 ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするシリコーン樹脂、並びにこのシリコーン樹脂に酸発生剤を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物である。【化1】(但し、式中Rは2価の有機基を示し、R'は2価の基又は直結合を示す)
Claim (excerpt):
ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするシリコーン樹脂。【化1】(但し、式中Rは2価の有機基を示し、R'は2価の基又は直結合を示す)
IPC (6):
C08G 77/14 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/06 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027
FI (6):
C08G 77/14 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/06 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (25):
2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  4J002CP051 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J035BA12 ,  4J035CA04U ,  4J035CA10M ,  4J035FB01 ,  4J035LA03 ,  4J035LB16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開昭57-105422
  • 特開平4-106549
  • 特開平4-025530

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