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J-GLOBAL ID：200903028423597949

モデル化装置及びモデル解析方法並びにプロセス異常検出・分類システム及びプロセス異常検出・分類方法並びにモデル化システム及びモデル化方法並びに故障予知システム及びモデル化装置の更新方法

Inventor：
小川 実

About 小川 実

, 
中村 寿一

About 中村 寿一

, 
合川 禎一

About 合川 禎一


Applicant, Patent owner：
オムロン株式会社

About オムロン株式会社


Agent (1)： 松井 伸一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002351850
Publication number (International publication number)：2004186445
Application date： Dec. 03, 2002
Publication date： Jul. 02, 2004
Summary：
【課題】半導体製造プロセスにおけるプロセスデータと結果データの相関関係のモデルを容易にモデル化することができるモデル化装置を提供すること【解決手段】プロセス実行時に得られたプロセス条件データを一定周期で収集することにより得られた時系列のプロセスデータを取得し、プロセスデータ編集部10aにてプロセスデータからプロセス特徴量を抽出し、プロセス特徴量データ記憶部10iに格納する。製品のIDをキーに、プロセス特徴量データと検査データ並びに故障データを結合し、データフィルター部10cにて不正データを削除して生成した解析用データを、解析部10dにてデータマイニングにより解析しモデルを作成する。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
半導体製造プロセスにおけるプロセス条件と、その結果生産された製品の検査結果を収集・蓄積し、前記プロセス条件と製品の状態との相関関係を解析しモデル化するモデル化装置であって、 プロセス実行時に得られたプロセス条件データを一定周期で収集することにより得られた時系列のプロセスデータを取得し、そのプロセスデータからプロセス特徴量を抽出するとともに、プロセス特徴量データ記憶手段に格納するプロセスデータ編集手段と、 前記プロセス実行により生成された製品についての検査データと、抽出された前記プロセス特徴量を結合し、解析用のデータを生成する解析用データ作成手段と、 前記解析用データに対しデータマイニングによる解析を実行して前記プロセス条件と前記製品の状態の相関関係のモデルを作成する解析手段とを備え、 前記プロセスデータ編集手段は、少なくとも設定値と実測値のレベル差異を前記プロセス特徴量として抽出して解析条件とすることを特徴とするモデル化装置。
IPC (3)：
H01L21/02 ,  G05B13/04 ,  G05B23/02
FI (3)：
H01L21/02 Z ,  G05B13/04 ,  G05B23/02 302V
F-Term (24)：
5H004GA28 ,  5H004GB15 ,  5H004HB01 ,  5H004HB02 ,  5H004HB03 ,  5H004HB14 ,  5H004JA04 ,  5H004JA23 ,  5H004KC24 ,  5H004KC25 ,  5H004KC28 ,  5H004LA15 ,  5H004MA24 ,  5H004MA27 ,  5H223AA05 ,  5H223BB01 ,  5H223BB02 ,  5H223BB08 ,  5H223CC08 ,  5H223DD01 ,  5H223DD07 ,  5H223EE06 ,  5H223FF08 ,  5H223FF09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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