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J-GLOBAL ID：200903028429550391
低温酸化膜形成装置および低温酸化膜形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992306905
Publication number (International publication number)：1994163517
Application date： Nov. 17, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、低温で酸化膜を形成でき、また外部からの不純物の拡散を防ぐ低温酸化膜形成装置および形成方法を提供することを目的とする。【構成】 低温で酸化膜を形成する装置において、ガス供給口とガス排気口を有する酸化炉と、前記酸化炉を所定の温度に加熱する加熱器と、前期酸化炉の前段に任意の水分を添加する機構あるいは任意の水分を発生する機構を備えたガス供給システムを有することを特徴とする。本発明は、低温で酸化膜を形成でき、また外部からの不純物の拡散を防ぐ低温酸化膜形成装置および形成方法を提供することを目的とする。
Claim (excerpt)：
低温で酸化膜を形成する装置において、ガス供給口とガス排気口を有する酸化炉と、前記酸化炉を所定の温度に加熱する加熱器と、前期酸化炉の前段に任意の水分を添加する機構あるいは任意の水分を発生する機構を備えたガス供給システムを有することを特徴とする低温酸化膜形成装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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