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J-GLOBAL ID：200903028458477326

検査データ解析システム

Inventor： 石川 誠二 ,  坂田 正雄 ,  中里 純 ,  下社 貞夫 ,  長友 宏人 ,  谷口 雄三 ,  佐藤 修 ,  岡部 勉 ,  坂本 雄三郎 ,  村松 公夫 ,  松岡 一彦 ,  橋本 泰造 ,  大山 祐一 ,  江原 裕 ,  宮崎 功 ,  花島 秀一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998346448
Publication number (International publication number)：1999317431
Application date： Jul. 12, 1989
Publication date： Nov. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、処理効率を向上させる電子デバイス検査システムを提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、前記目的を達成するために、データ検索方法と操作方法を定形化し、結果の表示形式も統一することにより、誰でも容易にデータ解析が行え、見やすい出力が得られるようにしたものである。

Claim (excerpt)：

被検査ワークの外観不良を検査する検査装置と、該検査装置が検査して得た検査結果を処理しその処理結果を出力する解析ユニットとを備え、該解析ユニットが被検査ワークのチップの配列を記述したチップ配列情報とは別の情報であって被検査ワークの有する複数個のチップが含まれかつ被検査ワークのほぼ中心を通る線に対して線対称もしくは被検査ワークのほぼ中心にある点に対して点対称となるように被検査ワークを複数個の領域に分割する分割情報を記憶する記憶手段と、該検査装置が検査して得た検査結果と該記憶手段が記憶する分割情報とを用いて線対称もしくは点対称となるように分割した複数個の領域毎の外観不良数もしくは外観不良密度を演算処理する演算手段と、該演算手段が演算処理した結果を出力する出力手段とを有することを特徴とする検査データ解析システム。

IPC (2)：

H01L 21/66 ,  H01L 21/02

FI (2)：

H01L 21/66 J ,  H01L 21/02 Z