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J-GLOBAL ID：200903028468353765

薬液供給装置

Inventor： 田中 克典 ,  中島 和男
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 下出 隆史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993200959
Publication number (International publication number)：1995037800
Application date： Jul. 20, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 薬液の清浄度の向上と薬液の濃度の均一化との両立を図り、質の高い基板洗浄等の処理を提供する。【構成】 開閉バルブ33を開状態、開閉バルブ19を閉状態として、純水供給口30からの純水を処理槽1に供給する。その後、処理槽1が一杯になると、開閉バルブ33を閉状態に、開閉バルブ19を開状態に切り換えて、循環系5の管路11を閉じて、ポンプ13により処理槽1の純水を循環系5内で循環させる。続いて、ガス供給系9における開閉バルブ49を開いて、塩化水素ガス供給口40からの塩化水素ガスを循環系5内の混合ユニット17に供給する。この結果、その塩化水素ガスは混合ユニット17内で純水と混合し、薬液が合成される。

Claim (excerpt)：

基板処理に用いられる薬液を供給する薬液供給装置であって、基板の処理部もしくはその処理部に薬液を転送可能な補助槽を経路中に含む循環路と、前記循環路中に純水を供給する純水供給手段と、前記循環路中の純水に対して前記薬液の元となるガスを供給するガス供給手段とを備えた薬液供給装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 ,  H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-159029
  
• 特開昭63-272040
  
• 半導体ウエハの洗浄方法及び洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-012070   Applicant：株式会社東芝