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J-GLOBAL ID：200903028486577743

ジメチルエーテル合成触媒の還元活性化方法

Inventor： 小川 高志 ,  小野 正巳 ,  水口 雅嗣 ,  戸村 啓二
Applicant, Patent owner： 日本鋼管株式会社
Agent (1)： 潮谷 奈津夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996351582
Publication number (International publication number)：1998192710
Application date： Dec. 27, 1996
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 H2 とCOとを主原料とする合成ガスからジメチルエーテルを合成用触媒を還元活性化する還元性ガスを安価に安定して供給する技術を開発する。【解決手段】 一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを触媒を用いて反応させ、ジメチルエーテルを合成する際の前記合成触媒の還元活性化方法であって、ジメチルエーテルの合成反応後の未反応ガスである一酸化炭素と水素とを主成分とする混合ガス、又は、前記混合ガスと合成反応成品である二酸化炭素とを主成分とする混合ガスの一部を、前記触媒の還元剤として用いる。【効果】 触媒還元ガスの昇圧コンプレッサー等を用いず、プラント外よりの窒素等の不活性ガスを大量に入手することなく、且つ、運転を中断して反応器を開放して触媒の交換を行なわずに、運転状態を維持しつつ触媒スラリーの還元処理とDME合成反応器内の触媒スラリーの交換とを行なうことが可能となる。

Claim (excerpt)：

一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを触媒を用いて反応させ、ジメチルエーテルを合成する際の前記合成触媒の還元活性化方法であって、ジメチルエーテルの合成反応後の未反応ガスである一酸化炭素と水素とを主成分とする混合ガス、又は、前記混合ガスと合成反応成品である二酸化炭素とを主成分とする混合ガスの一部を、前記触媒の還元剤として用いることを特徴とする、ジメチルエーテル合成触媒の還元活性化方法。

IPC (6)：

B01J 23/94 ,  B01J 23/80 ,  B01J 38/10 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 41/01 ,  C07C 43/06

FI (6)：

B01J 23/94 Z ,  B01J 23/80 Z ,  B01J 38/10 B ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 41/01 ,  C07C 43/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-261540
  
• 特開昭53-079811
  
• 特開平3-181435