Pat
J-GLOBAL ID：200903028510345565

金属酸化薄膜の形成方法及び反射防止フィルム

Inventor：
下西 弘二

About 下西 弘二


Applicant, Patent owner：
積水化学工業株式会社

About 積水化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003417179
Publication number (International publication number)：2005171373
Application date： Dec. 15, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：
【課題】熱・水分・光などによる膜厚変化が小さくて光学特性等が良好な酸化珪素薄膜等の金属酸化薄膜を形成する。【解決手段】常圧プラズマCVDにて金属酸化薄膜を形成するにあたり、金属化合物ガスと希釈ガスとの混合ガスに対し、パーフルオロカーボンガス、フッ化窒素ガス、硫化フッ素ガスまたはフッ素ガスの少なくとも1種類のガスを含むフッ素系ガスを1〜20体積%配合した複合ガスを原料ガスとして用いて基材上に金属酸化膜を形成する。また、このような方法を用いて、基材フィルム上に酸化珪素薄膜を成膜することで反射防止フィルムの低屈折率膜を得る。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
常圧プラズマCVD法によって金属酸化薄膜を形成する方法であって、金属化合物ガスと希釈ガスとの混合ガスに対し、パーフルオロカーボンガス、フッ化窒素ガス、硫化フッ素ガスまたはフッ素ガスの少なくとも1種類のガスを含むフッ素系ガスを1〜20体積%配合した複合ガスを原料ガスとして用いて基材上に金属酸化膜を形成することを特徴とする金属酸化薄膜の形成方法。
IPC (3)：
C23C16/40 ,  C23C16/515 ,  G02B1/11
FI (3)：
C23C16/40 ,  C23C16/515 ,  G02B1/10 A
F-Term (12)：
2K009AA02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA20 ,  4K030BA44 ,  4K030CA07 ,  4K030CA17 ,  4K030FA01 ,  4K030GA14 ,  4K030JA06 ,  4K030LA24
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM