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J-GLOBAL ID：200903028510764193

縦型熱処理装置

Inventor： 宮城 勝伸
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン東北株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992358987
Publication number (International publication number)：1994204157
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半導体ウェハを加熱した熱が熱処理用ボートを介して回転機構に集中して,回転軸が高温になるのを防止する。【構成】 被処理体を収容する処理容器の蓋体に磁性流体シールからなる回転導入機を設け,この回転導入機の回転軸内に冷却媒体を循環することができるように構成することと,また,被処理体が収容された熱処理用ボートを保持する保温筒をこの回転軸で支持する。

Claim (excerpt)：

被処理体を収容する処理容器の蓋体に磁性流体シールからなる回転導入機を設け,この回転導入機の回転軸内に冷却媒体を循環することができるように構成したことを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/31