Pat
J-GLOBAL ID:200903028515436453
ポリオレフィン微多孔膜及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高石 橘馬
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001300393
Publication number (International publication number):2003103626
Application date: Sep. 28, 2001
Publication date: Apr. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 空孔率、透過性及び機械的強度のバランスに優れ、かつ寸法安定性に優れたポリオレフィン微多孔膜の製造方法を提供する。【解決手段】 重量平均分子量が5×105 以上のポリエチレンを必須成分とするポリオレフィンと液体溶剤とを溶融混練し、得られた溶融混練物をダイより押出し、冷却することにより得られたゲル状成形物を二軸延伸し、得られた延伸物から25 °Cにおける表面張力が24 mN/m以下の洗浄溶剤を用いて液体溶剤を除去した後、上記洗浄後の延伸物を上記ポリオレフィンの結晶分散温度未満の温度で少なくとも一軸方向に再び延伸し、次いで上記ポリオレフィンの結晶分散温度〜融点の温度で機械方向(MD)及び横方向(TD)の両方ともに寸法変化が無いように熱固定処理する方法。
Claim (excerpt):
重量平均分子量が5×105 以上のポリエチレンを必須成分とするポリオレフィンからなるポリオレフィン微多孔膜であって、空孔率が50 〜95%であり、105 °C・8時間暴露後の機械方向(MD)及び横方向(TD)の熱収縮率が5%以下であり、突刺強度が7840 mN/25μm以上であり、かつ膜厚20μm換算の透気度が20 〜500 秒/100 ccであることを特徴とするポリオレフィン微多孔膜。
IPC (8):
B29C 55/12
, C08J 9/28 CES
, H01M 2/16
, H01M 10/40
, B29K 23:00
, B29K105:04
, B29L 7:00
, C08L 23:00
FI (8):
B29C 55/12
, C08J 9/28 CES
, H01M 2/16 P
, H01M 10/40 Z
, B29K 23:00
, B29K105:04
, B29L 7:00
, C08L 23:00
F-Term (57):
4F074AA16
, 4F074AA17
, 4F074AB01
, 4F074CA03
, 4F074CB34
, 4F074CB37
, 4F074CC02X
, 4F074CC02Z
, 4F074CC04Z
, 4F074CC05X
, 4F074CC29Y
, 4F074CC32Z
, 4F074DA49
, 4F210AA03
, 4F210AA04A
, 4F210AG01
, 4F210AG20
, 4F210AH33
, 4F210QC12
, 4F210QC15
, 4F210QD01
, 4F210QD07
, 4F210QD11
, 4F210QD13
, 4F210QG01
, 4F210QG15
, 4F210QG18
, 4F210QW07
, 5H021BB01
, 5H021BB02
, 5H021BB05
, 5H021BB13
, 5H021CC04
, 5H021EE01
, 5H021EE04
, 5H021HH00
, 5H021HH02
, 5H021HH06
, 5H021HH07
, 5H021HH09
, 5H029AJ02
, 5H029AJ05
, 5H029AJ12
, 5H029AJ14
, 5H029AK03
, 5H029AL06
, 5H029AM03
, 5H029AM05
, 5H029AM07
, 5H029CJ02
, 5H029CJ08
, 5H029DJ04
, 5H029EJ11
, 5H029EJ12
, 5H029HJ04
, 5H029HJ09
, 5H029HJ14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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多孔質フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-057430
Applicant:日東電工株式会社
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ポリオレフィン微多孔膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-004217
Applicant:東燃化学株式会社
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