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J-GLOBAL ID:200903028535841915
マイクロ波導入装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
河野 登夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992268883
Publication number (International publication number):1994120155
Application date: Oct. 07, 1992
Publication date: Apr. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 マイクロ波を均一にプラズマ生成室に導入し、均一な密度のプラズマを安定して効率良く生成できるマイクロ波導入装置及びマイクロ波導入方法を提供すること。【構成】 1はプラズマ生成室であり、円形の導波管2が、一端を図示しないマイクロ波発振器に接続し、他端にフランジ2a を設けて前記マイクロ波導入口1c に接続されている。マイクロ波導入口1c には、石英ガラスからなるマイクロ波導入窓8が、その下端面をプラズマ生成室31の内壁面と面一となるように位置させて設けられている。マイクロ波導入窓8の表面は、中心部にはマイクロ波導入窓8の厚みを薄くした凹部8a が、その周りに凸部8b が円環状に形成されている。
Claim (excerpt):
マイクロ波導波管内を伝播させ、マイクロ波導入窓を透過させてマイクロ波をプラズマ生成室へ導入するマイクロ波導入装置において、中心部で凹型その周辺部で凸型の断面形状を有するようにマイクロ波の伝播方向と垂直な方向で厚みを変化させ形成されたマイクロ波導入窓を備えていることを特徴とするマイクロ波導入装置。
IPC (4):
H01L 21/205
, H01L 21/302
, H01L 21/31
, H05H 1/46
Patent cited by the Patent:
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