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J-GLOBAL ID：200903028545272951

大気圧グロ-放電プラズマ処理法

Inventor： 内山 宏
Applicant, Patent owner： イーシー化学株式会社
Agent (1)： 田中 宏 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993233026
Publication number (International publication number)：1995085997
Application date： Sep. 20, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、大気圧グロ-放電処理によって、被処理物質の表面に均一な処理層又は薄膜を形成する大気圧グロ-放電プラズマ処理法に関する。【構成】対向する平行電極の少なくとも一方の電極の表面に固体誘電体を配設してなる電極を有するプラズマ反応装置に、該反応装置内に不活性ガス、又は、不活性ガスと反応性ガスを導入し、電極間に電圧を印加して大気圧グロ-放電プラズマ励起させ、対向する電極の間に位置せしめた被処理物質の表面を親水化、または薄膜形成を行う大気圧グロ-放電プラズマ処理法において、前記グロ-放電を発生させる電圧として、高周波電圧と直流逆電圧を交互に印加してグロ-放電を発生せしめることを特徴とする大気圧グロ-放電プラズマ処理法である。

Claim (excerpt)：

対向する平行電極の少なくとも一方の電極の表面に固体誘電体を配設してなる電極を有するプラズマ反応装置に、該反応装置内に不活性ガス、又は、不活性ガスと反応性ガスを導入し、電極間に電圧を印加して大気圧グロ-放電プラズマを励起させ、対向する電極の間に位置せしめた被処理物質の表面を親水化、または薄膜形成を行う大気圧グロ-放電プラズマ処理法において、前記グロ-放電を発生させる電圧として、高周波電圧と直流逆電圧を交互に印加してグロ-放電を発生せしめることを特徴とする大気圧グロ-放電プラズマ処理法。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-074525
  
• 特開昭53-068171
  
• 特開昭63-288021