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J-GLOBAL ID：200903028598157593

基板上に歪層を製造する方法と層構造

Inventor：
マントル・ジークフリート

About マントル・ジークフリート


Applicant, Patent owner：
フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング

About フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング


Agent (4)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006504293
Publication number (International publication number)：2006524426
Application date： Apr. 08, 2004
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：
【課題】 ウエーハ接着及び/又はウエーハ研磨なしに基板上に高い品質の歪層を製造する簡単な方法を提供すること。【解決手段】 この発明は、歪をもたせる層に隣接した層に欠陥領域を形成する工程と、歪をもたせる層に少なくとも隣接した層を緩和させる工程とにより、基板上に歪層を製造する方法に関する。その歪層は別のエピタキシャル層に配置されることができる。そのように形成された層構造は種々の構成要素に好ましく適している。
Claim (excerpt)：
基板(1,2)上に歪層(9)を製造する方法において、歪を持たせる層(3)に隣接した層(2,4,5,11)内に欠陥領域(7)を形成させる工程と、歪を持たせる層(3)に隣接した少なくとも一つの層(4,11)を緩和させる工程とから成ることを特徴とする方法。
IPC (5)：
H01L 21/20 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H01L 27/12
FI (6)：
H01L21/20 ,  H01L21/265 Q ,  H01L21/265 602A ,  H01L29/78 618Z ,  H01L27/12 Z ,  H01L27/12 L
F-Term (50)：
5F110AA16 ,  5F110BB04 ,  5F110CC02 ,  5F110DD01 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE09 ,  5F110EE31 ,  5F110GG02 ,  5F110GG06 ,  5F110GG12 ,  5F110GG25 ,  5F110GG42 ,  5F110HK05 ,  5F110HK08 ,  5F110HK09 ,  5F110HK21 ,  5F110HM02 ,  5F152LL02 ,  5F152LL09 ,  5F152LL14 ,  5F152LM09 ,  5F152LN01 ,  5F152LN02 ,  5F152LN07 ,  5F152LN14 ,  5F152LN15 ,  5F152LN21 ,  5F152MM02 ,  5F152MM04 ,  5F152MM09 ,  5F152MM11 ,  5F152MM18 ,  5F152MM19 ,  5F152NN02 ,  5F152NN03 ,  5F152NN04 ,  5F152NN05 ,  5F152NN06 ,  5F152NN09 ,  5F152NN12 ,  5F152NN14 ,  5F152NN15 ,  5F152NN16 ,  5F152NN19 ,  5F152NN29 ,  5F152NP02 ,  5F152NP04 ,  5F152NQ03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 国際特許出願公開第02/29402号明細書
Cited by examiner (5)
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