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J-GLOBAL ID:200903028608091456

自立したダイヤモンドウェハーおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上代 哲司 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994271944
Publication number (International publication number):1996133893
Application date: Nov. 07, 1994
Publication date: May. 28, 1996
Summary:
【要約】【目的】 表面弾性波素子、半導体デバイス、耐磨ディスク、X線、赤外線等のウインドーなどに利用するための自立したダイヤモンドウェハーを製作すること。【構成図】 基板の上に、気相合成法によりダイヤモンド膜を形成した後、基板を除去して反りが2〜150μmであり、表面粗度がRmax500Å以下、Raが200Å以下の平滑な面を有する。
Claim (excerpt):
気相合成法により基板上にコーティングされたダイヤモンド膜であって、前記基板を除去して自立したダイヤモンドウェハーとなし、自立したダイヤモンドウェハーの少なくとも1つの面の面粗度がRmax500Å以下でかつRa200Å以下であり、ダイヤモンドウェハーが2インチ以上の直径を有する円板またはそれと同等の面積を有する矩形状のものであり、かつ外周から内周に向かって単調に反っていることを特徴とする自立したダイヤモンドウェハー。
IPC (4):
C30B 29/04 ,  B24B 7/22 ,  C30B 33/08 ,  H03H 9/25

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