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J-GLOBAL ID:200903028654094184
光学素子保持装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤元 亮輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001207533
Publication number (International publication number):2003021769
Application date: Jul. 09, 2001
Publication date: Jan. 24, 2003
Summary:
【要約】【課題】 結像性能の劣化となる光学素子の自重変形による収差を低減することで所望の光学的性能をもたらし、高解像力を有する投影光学系を実現する光学素子保持装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイスを提供する。【解決手段】 光学素子の円周方向に設けられた第1の支持部を介し前記光学素子を保持する保持部材と、前記光学素子の円周方向に前記光学素子の自重変形を打ち消すように前記保持部材を支持する第2の支持部とを有する光学素子保持装置を提供する。
Claim (excerpt):
光学素子の円周方向に設けられた第1の支持部を介し前記光学素子を保持する保持部材と、前記光学素子の円周方向に前記光学素子の自重変形を打ち消すように前記保持部材を支持する第2の支持部とを有する光学素子保持装置。
IPC (3):
G02B 7/02
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
FI (5):
G02B 7/02 A
, G02B 7/02 B
, G02B 7/02 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
F-Term (8):
2H044AA02
, 2H044AA14
, 2H044AA19
, 2H044AE01
, 5F046BA03
, 5F046CB12
, 5F046CB20
, 5F046CB26
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