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J-GLOBAL ID：200903028662835991

試料基板と反射板を用いてX線が多重全反射して収束する構成にした全反射蛍光X線分析法および該分析装置

Inventor：
辻 幸一

About 辻 幸一


Applicant, Patent owner：
科学技術振興事業団

About 科学技術振興事業団


Agent (1)： 宮本 晴視
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002001009
Publication number (International publication number)：2003202306
Application date： Jan. 08, 2002
Publication date： Jul. 18, 2003
Summary：
【要約】【課題】 検出限界を改善した全反射蛍光X線分析方法およびそのための装置の提供【解決手段】 一次X線発生源からのX線X-rbと試料基板S.Pとのなす角度(θ)を調節する該X線照射角度調整器Z-Sを備えた回転ステージR.S、および該回転ステージ上部に取付けられた該試料基板取付載置台S.P.Sおよび試料基板と協働して多重全反射して収束しX線強度を増大させてグランシング角で照射可能な角の1 ゚未満で至適角度に調整可能で、かつ、収束したX線が通過し該被分析部を照射する間隔を持って配置した反射板Reを備えた一次X線強度増大手段を含むことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
Claim (excerpt)：
一次X線反射特性を有する試料基板、該試料基板に該試料基板の被分析部に一次X線源よりのX線を該試料基板と協働して多重全反射して収束しX線強度を増大させてグランシング角で照射可能とする角である1 ゚未満で至適角度に調整可能で、かつ、収束したX線が通過し該被分析部を照射する間隔を持って配置した一次X線反射板を含む構成とした全反射型蛍光X線分析装置を用いたことを特徴とする全反射蛍光X線分析法。
IPC (3)：
G01N 23/223 ,  G21K 1/06 ,  G21K 5/02
FI (3)：
G01N 23/223 ,  G21K 1/06 M ,  G21K 5/02 X
F-Term (11)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001GA13 ,  2G001JA01 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA21 ,  2G001QA01 ,  2G001SA29
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 特開平3-188361
  • 全反射蛍光X線分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-041870   Applicant：日本電気株式会社
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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