Pat
J-GLOBAL ID:200903028667743033
光酸化器
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001245184
Publication number (International publication number):2003053178
Application date: Aug. 13, 2001
Publication date: Feb. 25, 2003
Summary:
【要約】【課題】 より簡単な構造で、効率的かつ安全に試料液中の目的成分を酸化でき、さらに、分析対象となる試料液の消費量を少なくすると共に、分析装置全体を小型化可能な光酸化器を提供することを課題とする。【解決手段】 線状の酸化光源10と、楕円筒状の反射鏡20と、酸化光源10からの光を実質的に透過する材質からなり試料液が導入される反応管30とを備え、反射鏡20の焦点の一方に酸化光源10が配置されると共に、焦点の他方に反応管30が配置される。反応管30の内部にはセンサ40が挿入され、センサ40の周囲には光触媒層50がコーテイングされている。
Claim (excerpt):
線状の酸化光源と、反射鏡と、前記酸化光源からの光を実質的に透過する材質からなり試料液が導入される反応管とを備え、前記反射鏡は2つの線状の焦点を有し、前記焦点の一方に前記酸化光源が配置されると共に、前記焦点の他方に前記反応管が配置されることを特徴とする光酸化器。
IPC (7):
B01J 19/12
, B01J 35/02
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, G01N 27/06
, G01N 31/00
, G01N 33/18
FI (7):
B01J 19/12 D
, B01J 35/02 J
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, G01N 27/06 Z
, G01N 31/00 D
, G01N 33/18 B
F-Term (54):
2G042AA01
, 2G042BA03
, 2G042CA02
, 2G042CB03
, 2G042DA03
, 2G042FA08
, 2G042HA02
, 2G042HA07
, 2G042HA10
, 2G060AA05
, 2G060AE16
, 2G060AF08
, 2G060AG11
, 2G060FA03
, 2G060KA06
, 4D037AA01
, 4D037AB02
, 4D037AB03
, 4D037BA16
, 4D037BA18
, 4D037CA11
, 4D050AA05
, 4D050AB06
, 4D050AB31
, 4D050BB20
, 4D050BC04
, 4D050BD02
, 4D050CA07
, 4G069AA03
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BB04B
, 4G069BC35B
, 4G069BD07B
, 4G069CA10
, 4G069CA11
, 4G069CA15
, 4G069DA06
, 4G069EA06
, 4G075AA15
, 4G075AA65
, 4G075BA04
, 4G075CA33
, 4G075CA39
, 4G075DA01
, 4G075EA02
, 4G075EB33
, 4G075EC07
, 4G075EC25
, 4G075FB02
, 4G075FB03
, 4G075FB06
, 4G075FC04
, 4G075FC09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
特開昭58-214388
-
光化学反応を監視するための改良セル及び回路
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-519288
Applicant:アナテル・コーポレイション
-
浄水処理方法及び浄水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-049620
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開昭61-164640
-
紫外線酸化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-327146
Applicant:株式会社ティ・アンド・シー・テクニカル
-
光触媒装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-335998
Applicant:富士シリシア化学株式会社
Show all
Return to Previous Page