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J-GLOBAL ID:200903028718709854
中子材料及びその使用
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994066918
Publication number (International publication number):1995276372
Application date: Apr. 05, 1994
Publication date: Oct. 24, 1995
Summary:
【要約】【目的】 微細な形状を有する、高分子材料射出成形用中子を形成することができる材料、及び該材料により形成される中子を提供する。【構成】 ポリビニルアルコール(PVA)とポリエチレンオキサイド(PEO)との共重合体を含んで成る、射出成形用中子材料、並びに該中子材料により形成された中子。
Claim (excerpt):
ポリビニルアルコール(PVA)とポリエチレンオキサイド(PEO)との共重合体を含んで成る、射出成型用中子材料。
IPC (6):
B29C 33/40
, B29C 45/26
, B29C 45/44
, C08L 29/04 LGM
, C08L 71/02 LQE
, B29L 5:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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中空成形品の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-213414
Applicant:日本合成化学工業株式会社
-
特開平3-230927
-
中子用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-217370
Applicant:理研ビニル工業株式会社
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