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J-GLOBAL ID：200903028733523058

含硫黄ポリマー粒子の製造方法

Inventor： 永井 康彦 ,  深井 知裕 ,  中山 靖士
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994110916
Publication number (International publication number)：1995316296
Application date： May. 25, 1994
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 再帰反射性を有した道路区画線、導光板等の用途に好適に利用できる高屈折率の含硫黄ポリマー粒子の製造方法を提供する。【構成】 下記一般式(I)で表されるジチオール化合物45〜55モル%、及び、1分子当たり少なくとも2個の反応性不飽和基を有する化合物55〜45モル%を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得られる重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加して反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の製造方法。式中、R1 、R2 は、同一若しくは異なって、水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。nは1〜3の整数を表す。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表されるジチオール化合物45〜55モル%、及び、1分子当たり少なくとも2個の反応性不飽和基を有する化合物55〜45モル%を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得られる重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加して反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の製造方法。【化1】式中、R1 、R2 は、同一若しくは異なって、水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。nは1〜3の整数を表す。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平2-058001
  
• 特開昭61-019602
  
• 特開昭63-277244
  

Cited by examiner (2)

• 特開平2-058001
  
• 特開昭63-019602