文字等パターン照合方法及び装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高崎芳紘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997005337
Publication number (International publication number)：1998207978
Application date： Jan. 16, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】目視により認識される品質上問題の無い少量の欠け(はみ出し)等が発生している対象物パターンについて、従来処理で発生していた誤検知を減少させ、照合精度向上を図りたい。【解決手段】本発明は、主に辞書サイズ検出手段5、四隅合わせ手段6、パターンマッチング手段7より構成される。辞書サイズ検出手段5は、登録辞書時の切り出しサイズにより検出される。四隅合わせ手段6は、切り出された対象物サイズの四隅を検出し、基準パターンとして辞書登録されたときの切り出しサイズを同等の状態にする。パターンマッチング手段7は、対象物と基準パターンとの比較を行い一致度を算出し、4隅合わせパターンの中から一致度の最大のパターンを選ぶ。

Claim (excerpt)：

撮像して得た文字等パターンを切り出し、この文字等パターンの隅部が予め定めた四角形サイズの4つの隅部(左上、左下、右上、右下)にくるように隅合わせをして4つの隅合わせ文字等パターンを得、この4つの隅合わせ文字等パターンと基準パターンとの間でパターンマッチング処理を行い、4つの隅合わせ文字等パターンの中から最大一致度となる隅合わせパターンを選択する、こととした文字等パターン照合方法。

IPC (2)：

G06K 9/03 , G06T 7/00

FI (2)：

G06K 9/03 C , G06F 15/62 410 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

光学文字読取装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-279726 Applicant：日本電気エンジニアリング株式会社
文字認識方式
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-085176 Applicant：エヌ・ティ・ティ・データ通信株式会社
印字装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-293669 Applicant：日立エンジニアリング株式会社

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