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J-GLOBAL ID：200903028766690006

光デイスクの複製方法

Inventor： 佐藤 和洋
Applicant, Patent owner： 日本ビクター株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991329487
Publication number (International publication number)：1993101449
Application date： Nov. 18, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】 透明樹脂基板等に多少の凹凸があっても高い生産性を維持しつつ気泡を含まない転写を行う。【構成】 スタンパ8を、透明樹脂の基板2に形成した放射線硬化樹脂6へ圧着させることにより光ディスクを複製する方法において、所定の曲率を有する加圧板10を用いることにより、これとスタンパ8との間に上記基板2をサンドイッチ状に挟み込み、これによりスタンパ8と放射線硬化樹脂6とを局部的に加圧密着させる。そして、上記加圧板10等を移動することによりこの加圧密着部14を徐々に移動させて、接触面に含まれる気泡を外へ追い出す。また、加圧密着の完了した部分に放射線を照射して放射線硬化樹脂を完全に硬化させる。また、加圧密着前の樹脂6に、硬化時と同一放射線源からの微弱量の放射線を照射して半硬化状態にする場合には、半硬化、完全硬化処理が連続的に行われる。

Claim (excerpt)：

スタンパを、基板に形成した放射線硬化樹脂へ圧着することにより光ディスクを複製する方法において、前記スタンパと前記放射線硬化樹脂とを局部的に加圧密着させて、この加圧密着部を前記放射線硬化樹脂の一側部から他側部に向けて移動させると共に、加圧密着が完了した前記放射線硬化樹脂に放射線を照射する工程を含むように構成したことを特徴とする光ディスクの複製方法。

IPC (3)：

G11B 7/26 ,  B29C 33/20 ,  B29L 17:00