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J-GLOBAL ID：200903028771044317

レーザ加工装置

Inventor： 宇田 和孝 ,  竹内 良昭 ,  村田 正義
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 光石 俊郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993089594
Publication number (International publication number)：1994326337
Application date： Apr. 16, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ステージの一方の面にセットされた被加工物に対し、レーザビームを、前記ステージの他方の面から前記ステージを透過して照射することのできるレーザ加工装置を提供する。【構成】 ガラス等の光学的に透明な材料でできたステージ101を有し、このステージ101上に、透明ガラス基板7が下になり、膜11が上になるよう被加工物2をセットした状態で、ステージ101の下方から、レーザビーム3bを、ステージ101及び透明ガラス基板7を透過して膜11に照射して、この膜11を加工することが可能なものである。

Claim (excerpt)：

光学的に透明な領域を有するステージと、該ステージの一方の面上にセットされた被加工物に対し、レーザビームを前記ステージの他方の面から前記光学的に透明な領域を透過して照射せしめるレーザビーム照射手段とを有することを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (5)：

H01L 31/04 ,  B23K 26/10 ,  C23F 4/04 ,  H01L 21/28 301 ,  B23K101:42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-108580
  
• 集積型アモルフアス太陽電池の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-242597   Applicant：三洋電機株式会社
• 特開昭61-096774