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J-GLOBAL ID：200903028774065757

マイクロ波加熱装置

Inventor： 秋元 健司
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995238009
Publication number (International publication number)：1997082469
Application date： Sep. 18, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】マイクロ波加熱装置において、複数枚あるいは単一枚の大面積の半導体基板である処理試料11の全面を同時に均一に加熱処理する。【解決手段】金属壁で囲まれた処理室5の内部に収納された処理試料11に対向して配設されマイクロ波を導入する誘電体線路1を配置し、その端部にマイクロ波を反射する反射板3を設け、誘電体線路1にマイクロ波の定在波を形成させ誘電体線路1の表面から放出されるマイクロ波を拡散し強度分布を均一してから、処理試料11である半導体基板に照射し加熱処理を行う。

Claim (excerpt)：

被処理試料を収納し金属壁で囲まれる処理室と、前記被処理試料に対向し少なくともマイクロ波の一波長の距離を隔てて前記処理室内に配設されるとともに一端側から導波管を介してマイクロ波が導入される誘電体線路部材と、この誘電線路部材の他端に設けられ導入される前記マイクロ波を反射する反射部材とを備えることを特徴とするマイクロ波加熱装置。

IPC (2)：

H05B 6/70 ,  H05B 6/64

FI (2)：

H05B 6/70 A ,  H05B 6/64 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-137391
  
• 特開昭62-005600
  
• 特開昭62-099481