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J-GLOBAL ID：200903028774609234

偏光プリズム

Inventor： 松尾 大介 ,  葛西 広明 ,  井上 晃
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995244637
Publication number (International publication number)：1997090111
Application date： Sep. 22, 1995
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 複数のプリズムを接合した場合の接合層での入射光の全反射を防止する。【解決手段】 接合剤によって接合された複数の複屈折性光学結晶からなり、接合面への光線の入射角分布の内、利用する最大入射角度をθ、入射側のプリズムの屈折率をn1 としたとき、n1 ・sinθ≧1.7の関係を有する偏光プリズムであり、前記接合剤が金属、金属酸化物、金属硫化物又は金属窒化物を体積比で5%以上90%以下を添加材として含有している共に、前記金属酸化物の粒子径を60nm以下とする。接合剤が高屈折率となるため、入射光の全反射を防止できる。

Claim (excerpt)：

接合剤によって接合された複数の複屈折性光学結晶からなり、接合面への光線の入射角分布の内、利用する最大入射角度をθ、入射側のプリズムの屈折率をn1 としたとき、n1 ・sinθ≧1.7の関係を有する偏光プリズムであり、前記接合剤が金属、金属酸化物、金属硫化物又は金属窒化物を体積比で5%以上90%以下を添加材として含有している共に、前記金属酸化物の粒子径が60nm以下であることを特徴とする偏光プリズム。

IPC (2)：

G02B 5/04 ,  G02B 5/30

FI (3)：

G02B 5/04 D ,  G02B 5/04 A ,  G02B 5/30