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J-GLOBAL ID：200903028791558040

気液接触反応装置

Inventor： 松村 修三 ,  石田 宏司 ,  岩部 秀樹 ,  南 宏和 ,  吉崎 耕大
Applicant, Patent owner： 松村 修三 ,  株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995254369
Publication number (International publication number)：1997094457
Application date： Oct. 02, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】 複雑な装置構成を有することなく効率的に気体を注入できる気液接触反応装置を提供する。【解決手段】 被処理液2が下向流をなす反応槽3の内部に、被処理液2の一定水深下から底部にわたり上下方向に管状の気体透過膜4を配置し、この気体透過膜4の上部に気体透過膜4の内側に反応ガス5を適当圧で供給するガス供給管6を接続し、気体透過膜4の上部ほど多量の反応ガス5が被処理液4中に流入するように反応装置を構成する。これにより、処理対象物が存在する箇所に必要量の反応ガス5を供給でき、反応ガス5の反応効率および利用効率を高められる。

Claim (excerpt)：

被処理液とこの被処理液を処理するための気体とを効率よく接触させる気液接触反応装置であって、上部より被処理液を導入して下向きに流動させる反応槽と、下端部が閉じられ、反応槽内に被処理液の一定水深下から底部にわたり上下方向に配置された通気路をなす気体透過膜と、前記気体透過膜の上部に接続し、気体透過膜の内側に前記気体を適当圧で供給する給気手段とを備えて、気体透過膜の内側に供給された前記気体が気体透過膜を通じて被処理液中に流入し、その流入気体量が水頭に反比例して、気体透過膜の上部において多く、下部ほど少なくなるように構成したことを特徴とする気液接触反応装置。

IPC (4)：

B01J 10/00 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/78 ,  A23L 3/3409

FI (5)：

B01J 10/00 Z ,  B01F 3/04 ,  B01F 3/04 A ,  C02F 1/78 ,  A23L 3/3409