ポジ型フォトレジスト

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萼経夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995179554
Publication number (International publication number)：1996050356
Application date： Jun. 22, 1995
Publication date： Feb. 20, 1996
Summary：

【要約】【目的】熱的後処理を必要とせず、長期の保存寿命をもちおよび良好な解像度のレリーフ構造を与える、高感光性のポジ型フォトレジスト材料を提供する。【構成】a)酸-活性(acid labile)α-アルコキシアルキルエステル基を含むホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも1種;b)カルボキシル基の含量が0.40ないし5.50mol/kgであるカルボキシル含有コポリマーの少なくとも1種;c)化学線への露光において酸を形成する化合物の少なくとも1種およびd)有機溶媒からなる水性アルカリ媒体で現像可能なポジ型フォトレジスト組成物およびこのフォトレジスト組成物を使用するレリーフ構造の製造方法。

Claim (excerpt)：

a)酸-活性(acid labile)α-アルコキシアルキルエステル基を含むホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも1種;b)カルボキシル基の含量が0.40ないし5.50mol/kgであるカルボキシル含有コポリマーの少なくとも1種;c)化学線への露光において酸を形成する化合物の少なくとも1種およびd)有機溶媒;からなる水性アルカリ媒体で現像可能なポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (9)：

G03F 7/039 501 , C08K 5/02 , C08K 5/22 LHX , C08K 5/36 LHY , C08L 33/02 LJF , C08L 33/14 , C08L 35/02 LJD , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ポリスチレンを基材としたフォトレジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-125518 Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
ポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物、ポジ型感光性アニオン電着塗料、電着塗装浴、電着塗装法及びプリント回路板の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-313890 Applicant：日立化成工業株式会社
感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-238253 Applicant：株式会社東芝

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