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J-GLOBAL ID:200903028800952066

画像形成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999154527
Publication number (International publication number):2000348647
Application date: Jun. 02, 1999
Publication date: Dec. 15, 2000
Summary:
【要約】【課題】 二次電子放出防止、真空度劣化防止構造を配設する。【解決手段】 炭素を含む化合物からなる信頼性劣化防止層を蛍光体9の表面、又は蛍光体上のメタルバック13の表面に設けることにより、二次電子放出防止構造、真空度劣化防止構造を構築する。
Claim (excerpt):
電界放出電子源を有するカソード基板と、蛍光体を有するアノード基板とを含む画像形成装置において、炭素を含む化合物からなる薄膜を前記蛍光体表面に形成したことを特徴とする画像形成装置。
IPC (2):
H01J 31/12 ,  H01J 29/28
FI (2):
H01J 31/12 C ,  H01J 29/28
F-Term (9):
5C036BB10 ,  5C036EE01 ,  5C036EE05 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EG01 ,  5C036EG36 ,  5C036EH08 ,  5C036EH11

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