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J-GLOBAL ID：200903028807977684

光導波路作成方法

Inventor： 葛田 信幸
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 石井 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991197012
Publication number (International publication number)：1993019128
Application date： Jul. 11, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高い制御性と生産性を備えた低損失の埋め込み型光導波路の作成方法を提供する。【構成】 基板11上に、TEOSを用いた第1CVD膜12、不純物膜のパターン13、第1CVD膜と同様の第2CVD膜14を形成する。これを酸素を含む雰囲気中で熱処理して、CVD膜を緻密化したSiO2 膜15とし、同時に、不純物を拡散して、導波路部16を形成する。

Claim (excerpt)：

基板上に有機シラン,シロキサン等のケイ素化合物を用いて第1のCVD膜を形成する工程と、該CVD膜上に不純物膜のパターンを形成する工程と、その上に、有機シラン,シロキサン等のケイ素化合物を用いて第2のCVD膜を形成する工程と、酸素を含む雰囲気中で熱処理する工程を有することを特徴とする光導波路作成方法。