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J-GLOBAL ID：200903028816711719

落射照明装置

Inventor： 土屋 敦宏 ,  岩瀬 正明
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993205161
Publication number (International publication number)：1995056092
Application date： Aug. 19, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、フォトリシス光の照射範囲と励起光による照射範囲とを任意に設定可能で、時間的,空間的な分解能を改善することを目的とする。【構成】観察照明光学系22で生成した第1の照明光を標本Sに照射する落射照明装置において、フォトリシス反応を起こさせるための第2の照明光を生成して標本Sへ照射するフォトリシス用照明光学系23と、観察照明光学系22の光路上に配置され第1の照明光の照野を規制し、開口形状等が可変の第1の絞り34と、前記フォトリシス用照明光学系23の光路上であって標本Sと光学的に共役な位置に配置され、第2の照明光の照野を規制し、開口形状等が可変の第2の絞り45とを具備して構成される。

Claim (excerpt)：

標本からの光を結像して観察像を形成する観察光学系の光路上に波長選択性の光学素子を配置し、観察照明光学系で生成した第1の照明光を前記波長選択素子に入射して前記観察光学系の光軸と同軸的に導光し、第1の照明光を前記標本に照射する落射照明装置において、前記標本にフォトリシス反応を起こさせるための第2の照明光を生成し、その第2の照明光を前記標本へ照射するフォトリシス用照明光学系と、前記観察照明光学系の光路上であって前記標本と光学的に共役な位置に配置され、前記第1の照明光の照野を規制し、開口形状,寸法,光軸方向位置及び光軸に垂直な面内における開口位置の少なくとも一つが可変の第1の絞りと、前記フォトリシス用照明光学系の光路上であって前記標本と光学的に共役な位置に配置され、前記第2の照明光の照野を規制し、開口形状,寸法,光軸方向位置及び光軸に垂直な面内における開口位置の少なくとも一つが可変の第2の絞りとを具備したことを特徴とする落射照明装置。