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J-GLOBAL ID：200903028866734639

電子ビーム装置の製造方法

Inventor： 田口 孝雄
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 高橋 敬四郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992060166
Publication number (International publication number)：1993266789
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 小型で寸法精度の高い静電レンズを有する電子ビーム装置の製造方法に関し、形状精度の高い静電レンズを有する電子ビーム装置を作製することのできる電子ビーム装置の製造方法を提供することである。【構成】 下地上に絶縁体層と導電体層の交互積層構造を形成する工程と、前記交互積層構造に対して円形開口を有するマスクを介して選択的にX線を照射し、交互積層構造を一度にX線で被爆させる工程と、前記交互積層構造のX線被爆領域を選択的に除去して円形開口を形成する工程とを含む。

Claim (excerpt)：

下地(1)上に絶縁体層(3)と導電体層(5)の交互積層構造を形成する工程と、前記交互積層構造に対して円形開口(6)を有するマスク(7)を介して選択的にX線(8)を照射し、交互積層構造を一度にX線で被爆させる工程と、前記交互積層構造のX線被爆領域(9)を選択的に除去して円形開口(10)を形成する工程とを含む電子ビーム装置の製造方法。

IPC (3)：

H01J 9/02 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/027