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J-GLOBAL ID：200903028869518732

露光装置

Inventor： 松尾 和喜
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 高橋 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994044901
Publication number (International publication number)：1995230951
Application date： Feb. 18, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】 露光装置の露光範囲の設定精度を向上し、かつ自由に露光範囲を設定可能にする。【構成】 露光装置10は、光源S、液晶マスキング装置1、レンズ2、レチクル3および投影レンズ4からなる。光源Sからの可視光は、マスキングパターンを形成した液晶マスキング装置1を通過することにより露光範囲が決定され、投影レンズ4によってウェーハW上にレチクルパターンが縮小投影される。これによりウェーハW上のレジストが部分的に露光される。液晶マスキング装置1は多数の微小なピクセル7から構成されることにより、高い露光範囲設定精度と露光範囲の自由な設定が可能となる。

Claim (excerpt)：

光源の露光範囲を設定したマスキングパターンを備えるマスキング機構と、前記マスキング機構よりウェーハ側に位置しウェーハに投影されるべきレチクルパターンを備えるレチクルと、前記レチクルよりウェーハ側に位置しウェーハ上に前記マスキングパターンおよびレチクルパターンを投影するレンズとを備え、以て上記パターンを通過した光によりウェーハ上のレジストを露光する露光装置において、前記マスキング機構は、電界印加制御によって遮光制御できる多数のピクセルからなる液晶マスキング装置であることを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 519