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J-GLOBAL ID:200903028888735124

電解質構造体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 的場 基憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005230307
Publication number (International publication number):2007048541
Application date: Aug. 09, 2005
Publication date: Feb. 22, 2007
Summary:
【課題】電解質膜の温度が作動条件や使用環境条件によって上昇したり、修復を目的に加熱したりすることによって、電解質がゾル状態に相転移したとしても、系外に滲出したり流出したりするようなことがなく、電解質膜としての構造及び機能を長期に亘って維持することができる電解質構造体と、その製造方法、さらにはこのような電解質構造体を用いた燃料電池などのエネルギーデバイスを提供する。【解決手段】電解質膜を互いに異なるゾル-ゲル相転移温度を有する少なくとも2種類のゲル状イオン伝導体から成る多層構造、例えば相転位温度の低い電解質膜2aを相転位温度の高い電解質膜2bで挟持して成る3層構造の電解質構造体とする。【選択図】図7
Claim (excerpt):
複数層の電解質膜を有する多層構造をなし、これら電解質膜がナノサイズの繊維状会合体で形成され且つゾル-ゲル相転移温度を有する3次元網目構造体と、該構造体で包接されたカチオン成分とアニオン成分から成る電解質により形成されたゲル状イオン伝導体から成り、ゾル-ゲル相転移温度が異なる少なくとも2種類の電解質膜を備えていることを特徴とする電解質構造体。
IPC (2):
H01M 8/02 ,  H01M 8/10
FI (3):
H01M8/02 P ,  H01M8/02 T ,  H01M8/10
F-Term (9):
5G301CD01 ,  5G301CD02 ,  5G301CE10 ,  5H026AA06 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026HH00 ,  5H026HH03 ,  5H026HH08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

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