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J-GLOBAL ID：200903028896786552

陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法

Inventor： 亀山 秀雄 ,  寺井 聡
Applicant, Patent owner： 亀山 秀雄
Agent (1)： 滝田 清暉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995078207
Publication number (International publication number)：1996246190
Application date： Mar. 08, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】 25Å〜250Åの間で所望の細孔径分布を有する陽極酸化皮膜およびその形成方法を提供すること。【構成】 25Å〜250Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸化皮膜。

Claim (excerpt)：

25Å〜250Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸化皮膜。

IPC (3)：

C25D 11/18 301 ,  C25D 11/18 ,  C25D 11/04 302

FI (3)：

C25D 11/18 301 C ,  C25D 11/18 301 Z ,  C25D 11/04 302