露光方法及び露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997322231
Publication number (International publication number)：1999145051
Application date： Nov. 07, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】エバネッセント光を用いた露光で100nm以下の解像力を達成する露光方法及び露光装置を実現すること。【解決手段】表面に幅が100nm以下の開口からなる微小開口パターンを有し、且つ弾性体で構成されてマスク面の法線方向に弾性変形可能なマスクを用いて、該マスク表面に対向して配置した非露光物に該微小開口パターンの露光・転写を行なうことを特徴とする露光方法及び露光装置。

Claim (excerpt)：

弾性体で構成され、表側の面に100nm以下の幅の微小開口パターンを有するマスクを用いて被露光物にパターンを露光転写する露光装置において、該マスクを弾性変形させて前記被露光物に密着させる手段と、該マスクの裏面側から光を照射することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 527

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開昭62-282432
微小光学開口の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-021261 Applicant：ティーディーケイ株式会社
特開平4-027931

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Cited by examiner (1)

特開昭62-282432

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