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J-GLOBAL ID:200903028930869462
水素製造装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
内田 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993115758
Publication number (International publication number):1994321503
Application date: May. 18, 1993
Publication date: Nov. 22, 1994
Summary:
【要約】【目的】 選択的な水素透過性の仕切り壁を透過させて、水蒸気改質反応により生成した水素を分離するようにされた実験室規模の水素製造装置を発展させて、新規な構成の工業的水素製造装置を提供する。【構成】 水素製造装置10は底部12を閉じた外筒14と、その内側に順次配設された中筒16及び内筒18とを備えている。外筒14,中筒16及び内筒18とも直立円筒形をなしている。中筒と内筒との間の第2環状空間部26には改質触媒Aを充填した触媒層26を形成し、触媒層26には選択的に水素を透過する金属膜を備えた水素透過直方体34を第2環状空間部26と同心状に配設する。更に、水素透過直方体34の外壁と内壁とが画成する第3空間部33には多数のスイープガス管36を装入する。
Claim (excerpt):
選択的な水素透過性の仕切り壁を透過させて水蒸気改質反応により生成した水素を分離、収集するようにした水素製造装置において、?@ 底部を閉じた直立外筒と、その内側に直立して順次多重配設された中筒及び内筒と、並びに内筒の天井壁に配設された垂下式燃焼バーナとを備えてなり、?A 外筒と中筒とが画成する第1環状空間部と内筒内側の内筒中空部とは、それぞれの底部で連通し、更に中筒と内筒とは、下部端縁同士が連結して閉じた環状底部を有する第2環状空間部を形成してなり、?B 第2環状空間部には改質触媒を充填した触媒層が形成され、その触媒層には無機多孔層上に水素透過性の金属膜を有する外壁と内壁及び側壁と底壁を備えて第3空間部を画成する水素透過直方体が配置され、更に下端が開放されたスイープガス管が第3空間部に配設されてなり、?C 第2環状空間部上部から原料ガスを導入して触媒層を流下させつつ高温下で水素に転化し、生成した水素を水素透過直方体を透過させて選択的に分離、収集し、スイープガス管の上部から導入したスイープガスに透過水素を同伴させて第3空間部を経由して、その上部からスイープガスと共に流出されるようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
IPC (5):
C01B 3/38
, B01J 8/02
, B01J 8/06
, C01B 3/56
, H01M 8/06
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