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J-GLOBAL ID：200903028938118601

現像方法及びその装置

Inventor： 杉本 憲司
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994045075
Publication number (International publication number)：1995230173
Application date： Feb. 17, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】 現像ムラを防止することができる現像方法及びその装置を提供する。【構成】 露光後、現像液の供給に先立って、プリウェット液供給ノズル100内に付設された振動板によってプリウェット液に超音波振動が印加され、これが基板Wの表面に供給される。この超音波を印加することによって、プリウェット液が基板表面に供給された際に発生した数μm程度の大きさの微小気泡を振動させ、プリウェット液の表面に浮上させて消滅させる。よって基板表面は、親水性に改質され、かつ、微小気泡が存在しない状態となっている。その後に現像液供給ノズル20D1から供給される現像液は、微小気泡に妨げられることなく基板の表面を全面にわたって均一に覆い、結果、現像ムラを防止できる。

Claim (excerpt)：

感光性樹脂膜が形成された基板表面に対して所望パターンを露光した後、プリウェット液や現像液などを順次に供給することによって基板表面にそのパターンを作成する現像方法において、現像液の供給に先立って超音波を印加したプリウェット液を基板表面に供給し、前記プリウェット液の供給後に現像液などを順次に基板表面に供給することを特徴とする現像方法。

IPC (3)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 568 ,  H01L 21/30 569 C