レーザ装置、レーザプロセッシング装置およびビームパターン解析方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田澤博昭 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993238557
Publication number (International publication number)：1994224524
Application date： Sep. 24, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】高出力のレーザビームを効率良く安定に得る。【構成】互いに連結された複数の固体素子3を内面が光反射面よりなる集光器6内に納め、これを光源4から投光された光で励起してレーザ媒質とし、このレーザ媒質から発生された光をレーザ共振器を介してレーザビーム70としてレーザ共振器から取り出すように構成したものである。これにより、固体素子3や光学系の調整が容易で、かつ安定的に高出力のレーザビーム70を出力することができる。

Claim (excerpt)：

励起光を発生するレーザ媒質と、該レーザ媒質を励起する励起源と、該励起源により励起されたレーザ媒質からレーザビームを取り出すレーザ光学系とを有するレーザ装置において、前記励起源は、光源と、内面が光源から投光された光を反射する反射面で形成された集光器とを含み、前記レーザ媒質は、互いに同軸上に連結された状態で前記集光器内に設けられるとともに、両端部が前記集光器に形成された貫通孔を介して前記レーザ光学系に臨み、前記光源から投光された光で励起されて励起光を発生する複数の固体素子からなることを特徴とするレーザ装置。

IPC (7)：

H01S 3/23 , G02F 1/37 , G03H 1/04 , H01S 3/00 , H01S 3/08 , H01S 3/093 , H01S 3/108

FI (2)：

H01S 3/23 Z , H01S 3/08 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭51-094791
特開昭55-062791
特開平3-292782

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