微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000252127
Publication number (International publication number)：2002062667
Application date： Aug. 23, 2000
Publication date： Feb. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】簡便な操作でフォトレジスト組成物から微細なごみ(微粒子)を低いレベルまで除去することができる方法を提供する。【解決手段】フィルターにフォトレジスト組成物を通過させ、通過後のフォトレジスト組成物をさらに該フィルターに導き、閉鎖径内で循環させることにより該ホトレジスト組成物中の微粒子を除去することを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法。

Claim (excerpt)：

フィルターにフォトレジスト組成物を通過させ、通過後のフォトレジスト組成物をさらに該フィルターに導き、閉鎖径内で循環させることにより該フォトレジスト組成物中の微粒子を除去することを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法。

IPC (3)：

G03F 7/38 501 , B01D 35/02 , G03F 7/022

FI (3)：

G03F 7/38 501 , G03F 7/022 , B01D 35/02 Z

F-Term (7)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025EA01 , 2H025EA05 , 2H096AA25 , 2H096DA10 , 4D064AA40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (15)

特開平4-085542
塗布装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-007919 Applicant：東京エレクトロン株式会社
薬液供給方法および薬液供給装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-290525 Applicant：株式会社コガネイ

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

日本ミリポア・リミテッドのカタログ「フロロガードケミカルカートリッジフィルター」, 19840204

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