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J-GLOBAL ID：200903028963404945
反射板の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993337975
Publication number (International publication number)：1995198919
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：
【要約】【目的】 フォトリソプロセスにより、反射板表面の凹凸断面形状を自由に制御し、所望の反射板を提供することである。【構成】 本発明は、マスク材2と遮光材3よりなり、遮光材3によって光源の透過量を調整した露光マスク1を用いて、パターンニングすることで、凹凸形成層5の断面方向の光照射強度の制御ができる。これにより凹凸断面形状6の自由な形状制御が可能である。さらに、この上部に反射層を積層して反射板とする。
Claim (excerpt)：
基板上に凹凸形成層を有し、その上に反射層を積層した反射板の製造方法において、光の透過量が制御された露光マスクを用いて、凹凸の形成を行うことを特徴とする反射板の製造方法。
IPC (2)：
G02B 5/08
, G02F 1/1335 520
Cited by examiner (5)
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