Pat
J-GLOBAL ID:200903028968299694
光重合性組成物及び記録材料
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中島 淳 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001298172
Publication number (International publication number):2003107699
Application date: Sep. 27, 2001
Publication date: Apr. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 紫外光のみならず可視光〜赤外光に対して高感度に感応しうる光重合性組成物、感度と保存性及び地肌部の消色性に優れ、鮮明で高コントラストな画像を形成しうる記録材料を提供する。【解決手段】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、下記一般式(I)で表される化合物、及び該化合物と相互作用してラジカルを発生し得るラジカル発生剤を含有することを特徴とする光重合性組成物。【化1】〔一般式(I)中、R1、R2及びR3は、各々独立して水素原子又は1価の置換基を表す。R4は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基又は1価の置換基を表し、Z1は、一般式(I)で表される化合物が色素になるために必要な置換基を表す。X-は、陰イオンを形成し得る基を表す。〕
Claim (excerpt):
エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物、下記一般式(I)で表される化合物、及び該化合物と相互作用してラジカルを発生し得るラジカル発生剤を含有することを特徴とする光重合性組成物。【化1】〔一般式(I)中、R1、R2及びR3は、各々独立して水素原子又は1価の置換基を表す。R4は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基を表し、Z1は、一般式(I)で表される化合物が色素になるために必要な置換基を表す。X-は、陰イオンを形成し得る基を表す。〕
IPC (5):
G03F 7/029
, C08F 2/50
, G03F 7/004 507
, G03F 7/004 514
, C09B 23/00
FI (6):
G03F 7/029
, C08F 2/50
, G03F 7/004 507
, G03F 7/004 514
, C09B 23/00 L
, C09B 23/00 M
F-Term (57):
2H025AA01
, 2H025AA11
, 2H025AB09
, 2H025AB13
, 2H025AB20
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025BC83
, 2H025BC84
, 2H025CA39
, 2H025CA41
, 2H025CA48
, 2H025CC14
, 2H025CC20
, 2H025DA10
, 2H025DA11
, 4H056CA01
, 4H056CC02
, 4H056CC08
, 4H056CE03
, 4H056DD07
, 4H056DD19
, 4J011PA09
, 4J011PA25
, 4J011PA28
, 4J011PA29
, 4J011PA33
, 4J011PA36
, 4J011PA38
, 4J011PA39
, 4J011PA40
, 4J011PA43
, 4J011PB06
, 4J011PB08
, 4J011PB20
, 4J011PB25
, 4J011PC02
, 4J011PC08
, 4J011QA02
, 4J011QA03
, 4J011QA06
, 4J011QA08
, 4J011QA09
, 4J011QA32
, 4J011QA33
, 4J011QA39
, 4J011QA46
, 4J011SA78
, 4J011SA87
, 4J011SA88
, 4J011TA03
, 4J011UA01
, 4J011VA01
, 4J011VA04
, 4J011WA10
Patent cited by the Patent: