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J-GLOBAL ID：200903028971729381

化学蒸着(CVD)による基板上への共役置換又は共役非置換ポリ(p-フェニレンビニレン)フィルムの製造方法及びエレクトロルミネセンス(EL)装置の製造方法

Inventor： スターリング アエミリアヌス フラダス ヨハヌス ,  ブルール ディルク イァン ,  デマンド ロベルト ヨゼフ カタリーナ エミエル
Applicant, Patent owner： フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995529490
Publication number (International publication number)：1997500929
Application date： May. 10, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】CVD方法により、簡易なモノマーを用いて共役ポリ(p-フェニレンビニレン)の薄膜を製造する方法である。かかるポリマーは特に、エレクトロルミネセンス装置、例えば発光ダイオード中の活性層として適切に使用することができる。

Claim (excerpt)：

ポリマーは次の一般式 (式中Rは、H,C1〜C5アルキル基又はアルコキシ基及びCNから成る群より選ばれ、m=1〜4、n=10〜100,000を示す)で表わされ、次の連続工程: a.次の一般式 (式中R1及びR2はハロゲン原子を示し、R及びmは上記と同様である)で表わされる少なくとも1種のモノマー化合物を、第1加熱帯中約50°C〜約250°Cの温度で蒸発させ、 b.蒸発させたモノマー化合物を、約500°C〜約900°Cの温度で第2加熱帯を通過させて移送し、これにより共役先駆体を形成し、 c.工程bの先駆体を温度500°C以下の温度で基板が設置されている第3加熱帯に移送し、これにより基板上に一般式(I)のポリマーのフィルムを形成する工程を含むことを特徴とする化学蒸着(CVD)による基板上への共役置換若しくは共役非置換ポリ(p-フェンレンビニレン)フィルムの製造方法。

IPC (4)：

C08G 61/02 NLF ,  C08J 5/18 CEZ ,  H01L 33/00 ,  H05B 33/14

FI (4)：

C08G 61/02 NLF ,  C08J 5/18 CEZ ,  H01L 33/00 A ,  H05B 33/14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭63-225622
  
• 特開平1-234426
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-225622
  
• 特開昭63-225622
  
• 特開平1-234426
  
• 特開平1-234426